磁性薄膜用三元スパッタ装置
【用途・特徴】
rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製/各種薄膜作製
rfマグネトロンスパッタ法による単層または多層の磁性膜作製/各種薄膜作製
メーカー名
日電アネルバ株式会社型番
L-332S-FH仕様
平行平板型マグネトロンスパッタリング/rf電源:600W、DC電源500W/3インチマグネトロンカソード:3基(強磁性体用2基、rf用3基、DC用1基)/基板加熱:最高300℃/基板回転機構付き(5rpm)/膜厚分布:±10%以内(中心よりΦ200mm内)/Arガス流量制御器付き導入年度
平成8年度- この装置に関連するお問い合わせ
- 担当:電子技術部 電子デバイスグループ