ドライエッチング装置

【用途・特徴】
真空槽内に設けた並行平板型の電極に高周波を印加し、ガスをプラズマで分解し、イオンやラジカルを利用して薄膜などのドライエッチングを行う装置です。ポリシリコン薄膜、シリコン窒化膜、シリコン基板などのドライエッチングが可能です。