「試験計測等料金表」令和６年４月１日改定のお知らせ〔新設・名称等変更・削除項目 追加〕
日頃、KISTECを御利用いただき、誠にありがとうございます。
既に御案内させていただきました通り、「試験計測等料金表」が令和６年４月１日から改定されます。
新料金表につきましては、以下の試験計測等料金表（PDF版）をご確認ください。
また、同日付で以下のとおり、試験項目が新設・名称等変更・削除されます。
● 新規に追加される試験項目は以下のとおりです。
試験計測料金 単位：円
| No. | 項 目 | 単 位 | 料 金 | 担当部名 |
| E0215 | 摩耗試験 | １試料１条件につき | 7,700 | 機械・材料技術部 |
| E0216 | 摩耗試験 １件増 | １条件増すごとに | 3,520 | 機械・材料技術部 |
| E0775 | 接合強度試験（はんだ継手強度試験） | １測定条件につき（５測定点まで） | 9,130 | 電子技術部 |
| E0776 | 接合強度試験（ワイヤーボンディング強度試験） | １測定条件につき（５測定点まで） | 10,780 | 電子技術部 |
| E0777 | 接合強度試験（ダイシェア試験） | １測定条件につき（５測定点まで） | 11,660 | 電子技術部 |
| E0985 | 高出力高精細Ｘ線ＣＴ撮影 | １時間当たり | 16,830 | 機械・材料技術部 |
| E1340 | 冷熱衝撃試験（中・ハイパワータイプ） | ８時間まで | 15,510 | 電子技術部 |
| E1341 | 冷熱衝撃試験（中・ハイパワータイプ）８時間増 | ８時間増すごとに | 7,700 | 電子技術部 |
| E1555 | 電圧ディップ，短時間停電及び電圧変動イミュニティ試験 | １時間まで | 10,120 | 電子技術部 |
| E1556 | 電圧ディップ，短時間停電及び電圧変動イミュニティ試験 １時間増 | １時間増すごとに | 5,610 | 電子技術部 |
| E1801 | 試料調製（１）（一般的な前処理） | E1810,E1820,E1821,E1822,E1831,E1832, E1860,E1891,E1892,E1911,E1921,E4010, E4020 に適用 | 10,890 | 化学技術部 |
| E1802 | 試料調製（２）（複雑な前処理） | E1810,E1820,E1821,E1822,E1831,E1832, E1860,E1891,E1892,E1911,E1921,E4010, E4020 に適用 | 14,300 | 化学技術部 |
| E1803 | 試料調製（３）（困難な前処理） | E1810,E1820,E1821,E1822,E1831,E1832, E1860,E1891,E1892,E1911,E1921,E4010, E4020 に適用 | 21,230 | 化学技術部 |
| E1804 | 試料調製（４）（非常に困難な前処理） | E1810,E1820,E1821,E1822,E1831,E1832, E1860,E1891,E1892,E1911,E1921,E4010, E4020 に適用 | 29,150 | 化学技術部 |
| E1805 | 切粉作製（Ａ）（加工が容易なもの） | E1810,E1820,E1821,E1822,E1831,E1832, E1860,E1891,E1892,E1911,E1921,E4010, E4020 に適用 | 3,080 | 化学技術部 |
| E1806 | 切粉作製（Ｂ）（加工がやや難しいもの） | E1810,E1820,E1821,E1822,E1831,E1832, E1860,E1891,E1892,E1911,E1921,E4010, E4020 に適用 | 10,560 | 化学技術部 |
| E2215 | 試料調製（溶出前処理） | E2211,E2212に適用 | 4,730 | 化学技術部 |
| E2281 | シャルピー衝撃試験（室温） | １試験片につき | 2,310 | 化学技術部 |
| E3065 | 試験途中の試料観察（槽からの取り出し無し） | １回につき（E3060に適用） | 440 | 化学技術部 |
| E3066 | 試験途中の試料観察（槽からの取り出し有り） | １試料１回につき（E3060に適用） | 1,430 | 化学技術部 |
| E3067 | 試験途中の試料洗浄 | １試料１回につき（E3066に適用） | 660 | 化学技術部 |
| E3068 | 試験途中の試料抜き去り | １試料１回につき（E3060に適用） | 440 | 化学技術部 |
| E3326 | 冷却遠心分離 １時間増 | １時間増すごとに（E3325に適用） | 5,060 | 化学技術部 |
| E4173 | 粒径分布測定（レーザ回折・散乱法）（Ａ）湿式または乾式 | １試料につき | 6,490 | 機械・材料技術部 |
| E4174 | 粒径分布測定（レーザ回折・散乱法）（Ｂ）湿式（有機溶媒） | １試料につき | 8,470 | 機械・材料技術部 |
| E4175 | 粒径分布測定（レーザ回折・散乱法）（Ｃ）特殊なもの | １試料につき | 10,450 | 機械・材料技術部 |
| E4183 | 粒径分布測定（静的画像解析法）（Ａ）（簡易な評価） | １試料につき | 4,730 | 機械・材料技術部 |
| E4184 | 粒径分布測定（静的画像解析法）（Ｂ) | １試料につき | 8,030 | 機械・材料技術部 |
| K3075 | 光触媒のメチルメルカプタン除去性能試験 | １試験につき | 71,610 | 川崎技術支援部 |
● 名称等変更される試験項目は以下のとおりです。
試験計測料金 単位：円
| No. | 項 目 | 単 位 | 料 金 | 担当部名 |
| E0110 | 引張･圧縮･曲げ試験（１）（簡単な試験） | １試験につき | 2,530 | 機械・材料技術部 |
| E0120 | 引張･圧縮･曲げ試験（２）（比較的簡単な試験） | １試験につき | 3,740 | 機械・材料技術部 |
| E0130 | 引張･圧縮･曲げ試験（３）（標準的な試験） | １試験につき | 5,500 | 機械・材料技術部 |
| E0140 | 引張･圧縮･曲げ試験（４）（やや複雑な試験） | １試験につき | 7,480 | 機械・材料技術部 |
| E0150 | 引張･圧縮･曲げ試験（５）（複雑な試験） | １試験につき | 10,560 | 機械・材料技術部 |
| E0160 | 製品強度試験（１）（簡単な試験） | １試験につき | 8,690 | 機械・材料技術部 |
| E0165 | 製品強度試験（２）（標準的な試験） | １試験につき | 15,510 | 機械・材料技術部 |
| E0170 | 製品強度試験（３）（複雑な試験） | １試験につき | 24,090 | 機械・材料技術部 |
| E0180 | 硬さ試験 | １点につき | 1,100 | 機械・材料技術部 K5330 |
| E0295 | Ｘ線応力測定 | １試料１か所１方向につき | 6,050 | 機械・材料技術部 |
| E0415 | 疲労試験 １時間以内 | １試験につき | 5,060 | 機械・材料技術部 |
| E0420 | 疲労試験 ８時間以内 | １試験につき | 17,050 | 機械・材料技術部 |
| E0431 | 疲労試験 大型構造物 ８時間以内 | １試験につき | 23,540 | 機械・材料技術部 |
| E0510 | 電流電圧測定 | １試料１条件につき | 3,080 | 電子技術部 |
| E0570 | 低抵抗測定 | １試料１条件につき | 4,180 | 電子技術部 |
| E0660 | 電気機器・漏れ電流測定 | １試料１条件につき | 4,400 | 電子技術部 |
| E0680 | 電気機器・接地回路の抵抗測定 | １試料１条件につき | 4,290 | 電子技術部 |
| E0750 | 絶縁抵抗試験 | １試料１条件につき | 5,170 | 電子技術部 |
| E2885 | ノッチ加工 | １試験片につき（E2881に適用） | 1,980 | 化学技術部 |
| E3050 | 浸せき試験 | 室温で実施の場合 1試料24時間まで（試験液費用は別途負担） | 4,730 | 化学技術部 |
| E3325 | 冷却遠心分離 | １時間まで | 5,390 | 化学技術部 |
| E4510 | 試料調整（１） （のこ盤、かんな盤などによる試験片作製） | １試料（30分につき） | 1,650 | 情報・生産技術部 |
| E5137 | 総フラボノイド定量（塩化アルミニウム法による） | １試料につき | 5,060 | 化学技術部 |
| K3610 | ２灯式SSによる連続照射 | 24時間につき（150mm角まで 山下電装YSS-T150Aを使用） | 54,670 | 川崎技術支援部 |
| K3612 | ２灯式SSによる連続照射 追加 | 追加24時間につき（150mm角まで 山下電装YSS-T150Aを使用） | 52,800 | 川崎技術支援部 |
| K3010 | 光触媒の窒素酸化物除去性能試験 | １試験につき | 71,170 | 川崎技術支援部 |
| K3015 | 光触媒の窒素酸化物除去性能試験 －再生率－ | １試験につき | 20,020 | 川崎技術支援部 |
| K3050 | 光触媒のアセトアルデヒド除去性能試験 | １試験につき | 48,840 | 川崎技術支援部 |
| K3055 | 光触媒のアセトアルデヒド除去性能試験 －バッグ法 | １試験につき | 44,990 | 川崎技術支援部 |
| K3060 | 光触媒のトルエン除去性能試験 | １試験につき | 44,880 | 川崎技術支援部 |
| K3070 | 光触媒のホルムアルデヒド除去性能試験 | １試験につき | 66,110 | 川崎技術支援部 |
| K3020 | 光触媒のセルフクリーニング試験 湿式分解性能の測定 | １試験につき | 48,620 | 川崎技術支援部 |
| K3030 | 光触媒のセルフクリーニング試験 水接触角の測定 | １試験につき | 71,610 | 川崎技術支援部 |
| K3080 | 光触媒の水浄化性能試験（JISR1704準拠）（明条件のみ） | １試験につき | 81,840 | 川崎技術支援部 |
| K3085 | 光触媒の水浄化性能試験（JISR1704準拠）（暗条件のみ） | １試験につき | 81,840 | 川崎技術支援部 |
| K3105 | 光触媒性能試験JIS試験条件不成立時 （試験途中中止時） | １試験につき | 24,310 | 川崎技術支援部 |
| K5340 | 硬さ試験試料調製（第１種）：容易なもの | １試料につき | 1,980 | 川崎技術支援部 |
| K5341 | 硬さ試験試料調製（第２種）：比較的容易なもの | １試料につき | 3,960 | 川崎技術支援部 |
| K9070 | 技術開発受託報告書の複本・データ等の交付 | １通につき（写真を含む場合は別に加算することができる） | 297 | 川崎技術支援部 |
機器使用料金 単位：円（１時間当たり）
| No. | 項 目 | メーカー・型式 | 料 金 | 担当部名 |
| E8200 | 絶縁抵抗計（表面および体積抵抗のみ） | キーサイト・テクノロジー・4339B | 3,300 | 電子技術部 |
| E8220 | ＬＣＲメータ | ＹＨＰ ・ YHP4285A | 3,190 | 電子技術部 |
| K2315 | 電波暗室 （測定帯域 １GHz～6GHz） TDK製（３m法） （１時間以内） | TDK製（３m法） | 9,460 | 川崎技術支援部 |
| K2316 | 電波暗室 （測定帯域 １GHz～6GHz） TDK製（３m法） （追加30分あたり） | TDK製（３m法） | 4,510 | 川崎技術支援部 |
● 削除される試験項目は以下のとおりです。
試験計測料金 単位：円
| No. | 項 目 | 単 位 | 料 金 | 担当部名 |
| E0591 | 四探針法による抵抗率測定 | １試料１測定につき | 10,230 | 電子技術部 |
| E0690 | ＬＣＲ測定 | １試料１条件につき | 9,460 | 電子技術部 |
| E0710 | ＬＣＲ測定 １ヶ所増 | １試料につき測定点１ヶ所増すごとに | 3,080 | 電子技術部 |
| E0761 | はんだ継手強度試験 | １測定条件につき（10測定点まで） | 18,700 | 電子技術部 |
| E0762 | はんだ継手強度試験 ５測定点増 | ５測定点増すごとに | 8,470 | 電子技術部 |
| E0763 | ワイヤーボンディング強度試験 | １測定条件につき（10測定点まで） | 21,560 | 電子技術部 |
| E0764 | ワイヤーボンディング強度試験 ５測定点増 | ５測定点増すごとに | 9,900 | 電子技術部 |
| E0765 | ダイシェア試験 | １測定条件につき（10測定点まで） | 23,210 | 電子技術部 |
| E0766 | ダイシェア試験 ５測定点増 | ５測定点増すごとに | 10,670 | 電子技術部 |
| E0813 | 電源変動および瞬停試験 | ２時間まで | 12,100 | 電子技術部 |
| E0814 | 電源変動および瞬停試験 １時間増 | １時間増すごとに | 6,050 | 電子技術部 |
| E1030 | 薄膜屈折率測定 | １試料につき | 23,870 | 電子技術部 |
| E1040 | 定エネルギー分光測定 | １条件につき | 36,080 | 電子技術部 |
| E1050 | 膜厚測定 | １試料１測定点につき | 5,830 | 電子技術部 |
| E1051 | 三次元微細形状測定 | 標準１測定当たり | 12,540 | 電子技術部 |
| E1160 | イオンプレーティング成膜 | 標準１試料当たり | 50,930 | 電子技術部 |
| E1170 | イオンプレーティング成膜 １条件増 | １条件増すごとに | 19,470 | 電子技術部 |
| E1940 | 試料調製（１）（切粉作製等簡易な前処理） | E1810,E1820,E1821,E1822,E1831,E1832, E1860,E1932,E1933,E2021,E2211,E2212, E2225,E2235,E2265,E2275,E2281,E2282, E2290,E2294,E2295,E2310,E2330,E2340, E4010,E4020に適用 | 1,870 | 化学技術部 |
| E1950 | 試料調製（２）（難分解性試料等複雑な前処理） | E1810,E1820,E1831,E1832,E1860,E1891, E1892,E1911,E2021,E2211,E2212,E2225, E2235,E2265,E2275,E2281,E2282,E2290, E2294,E2295,E2310,E2330,E2340,E4010, E4020に適用 | 9,790 | 化学技術部 |
| E1960 | 試料調製（３）（極微量物質の分離濃縮等困難な前処理） | E1810,E1820,E1831,E1832,E1891,E1892, E1911,E2021,E2211,E2212,E2225,E2235, E2265,E2275,E2281,E2282,E2290,E2294, E2295,E2310,E2330,E2340,E4010,E4020に適用 | 16,280 | 化学技術部 |
| E1970 | 試料調製（４）（抽出、濃縮等標準的な前処理） | E1810,E1820,E1831,E1832,E1891,E1892, E1841,E1860,E1911,E2211,E2212,E2225, E2235,E2265,E2275,E2281,E2282,E2290, E2294,E2295,E2310,E2330,E2340,E4010, E4020に適用 | 5,170 | 化学技術部 |
| E2030 | 試料調製（５）分取用 液体クロマトグラフ使用 | １試料１成分につき | 28,930 | 化学技術部 |
| E2040 | 試料調製（６）分取用 液体クロマトグラフ使用 １成分増 | 同試料１成分増すごとに | 3,740 | 化学技術部 |
| E2090 | 顕微レーザーラマン分光分析 １条件増 | １条件増すごとに | 29,920 | 機械・材料技術部 |
| E2091 | 顕微レーザーラマン分光分析 （簡単なもの） | １試料１ヶ所につき | 20,460 | 機械・材料技術部 |
| E2773 | 測定前温度調整 | １試料につき１時間毎（E2750,E2751,E2760,E2761,E2770に適用) | 3,190 | 化学技術部 |
| E2880 | 衝撃試験（アイゾット・シャルピー）（室温） | １試料につき | 6,380 | 化学技術部 |
| E3710 | 剛軟度試験 | １試料１方向につき | 1,210 | 化学技術部 |
| E3730 | はっ水度試験 | １試料につき | 2,640 | 化学技術部 |
| E4181 | 粒径分布測定（光学顕微鏡による画像解析式） | １試料、合成画像１視野につき | 4,730 | 機械・材料技術部 |
| E4182 | 粒径分布測定（光学顕微鏡による画像解析式） １視野追加 | 合成画像１視野追加につき | 1,650 | 機械・材料技術部 |
| K1345 | 高分解能分析走査電子顕微鏡（FE-SEM/EDS）SEM観察 Arクリーナー | Arクリーナーの使用10分につき | 2,200 | 川崎技術支援部 |
| K1415 | TEM試料調製 電解研磨法 | １試料につき | 27,390 | 川崎技術支援部 |
| K1420 | TEM試料調製 イオンミリング法 易 | １試料につき | 100,870 | 川崎技術支援部 |
| K1421 | TEM試料調製 イオンミリング法 中 | １試料につき | 201,740 | 川崎技術支援部 |
| K1422 | TEM試料調製 イオンミリング法 難 | １試料につき | 297,000 | 川崎技術支援部 |
| K1642 | 集束イオンビーム装置（FIB） （連続自動加工） | 追加１時間あたり（ただし、設定可能なものに限る） | 16,610 | 川崎技術支援部 |
| K1651 | FIBオプション タングステン膜デポジション | 10分あたり | 2,420 | 川崎技術支援部 |
| K1660 | FIBオプション マイクロプロービングシステム | １時間あたり | 18,150 | 川崎技術支援部 |
| K1942 | マルチ解析用集束イオンビーム装置（FIB）（連続自動加工） | 追加１時間あたり（ただし、設定可能なものに限る） | 16,500 | 川崎技術支援部 |
| K1955 | マルチ解析用FIBオプション Easy Lift | １時間あたり | 17,930 | 川崎技術支援部 |
| K3460 | 分光照度計による照度、演色性、色温度などの測定 | １試料１測定（５回測定）につき | 2,200 | 川崎技術支援部 |
| K4175 | 電解研磨法 | １試料につき | 27,390 | 川崎技術支援部 |
| K4176 | イオンミリング法 易 | １試料につき | 100,870 | 川崎技術支援部 |
| K4177 | イオンミリング法 中 | １試料につき | 201,740 | 川崎技術支援部 |
| K4178 | イオンミリング法 難 | １試料につき | 297,000 | 川崎技術支援部 |
機器使用料金 単位：円（１時間当たり）
| No. | 項 目 | メーカー・型式 | 料 金 | 担当部名 |
| E6620 | 電極形成装置の本体システム | ＫＨエレクトロニクス・特別仕様 | 18,920 | 電子技術部 |
| E6650 | 定エネルギー分光器 | 日本分光・YQ-250CW-GT | 11,990 | 電子技術部 |
| E6660 | ボロメータ評価システム用高温電気測定用チャンバ | テクノロ工業・特別仕様 | 4,510 | 電子技術部 |
| E6670 | ボロメータ評価システム用光源システム | 日本分光・SS-25GT | 12,100 | 電子技術部 |
| E6980 | 焼き付け装置 | デルタデザイン（米国）・9023型 | 880 | 電子技術部 |
| E8010 | 薄膜屈折率測定装置 | 溝尻光学・DHA-XA型 | 8,800 | 電子技術部 |
| E8040 | Ｃ－Ｖ測定装置 | ＹＨＰ・4280A | 5,830 | 電子技術部 |
| E8150 | 膜厚計 | 小坂研究所・T4000AKR | 2,860 | 電子技術部 |
| E8190 | マルチフリケンシャルＬＣＲメータ | ＹＨＰ・YHP4274A/YHP4275A | 2,860 | 電子技術部 |
| E8430 | ガウスメータ（最小測定レンジ:2mT、最大測定レンジ:2T） | ベル・9200型 | 880 | 電子技術部 |
| K2610 | マニピュレーター SISA-30TI-2 （30分あたり） | ナリシゲ・SISA-30TI-2 | 2,860 | 川崎技術支援部 |
| K2642 | 集束イオンビーム装置 XVision200TB （１時間あたり） | SII社・ XVision200TB | 53,350 | 川崎技術支援部 |
| K2660 | TEM用グリッド （１個あたり） | 3,740 | 川崎技術支援部 | |
| K2690 | TEM用グリッド（１個あたり） Scios使用 | ナリシゲ・ SISA-30TI-2 | 2,860 | 川崎技術支援部 |
| K2681 | マルチ解析用集束イオンビーム装置 Scios （１時間あたり） | FEI社・ Scios | 51,810 | 川崎技術支援部 |
| K2778 | 電磁波妨害源探査装置 EPS-M1 （１時間以内） | ノイズ研究所・EPS-M1 | 2,640 | 川崎技術支援部 |
| K2779 | 電磁波妨害源探査装置 EPS-M1 （追加30分あたり） | ノイズ研究所・EPS-M1 | 1,320 | 川崎技術支援部 |
詳細は担当部にお問い合わせください。
引き続き皆様のご利用をお待ちしております。