酸化拡散試験

酸素や水蒸気を利用し、Si（シリコン）ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。

【試験対象】
　Siウェハ

4インチウェハに対応（推奨は3インチまで）／温度範囲400～1200℃／ドライ酸化、ウエット酸化

料金について

料金表番号	試験名	単位	料金
E1120	酸化拡散試験	１時間当たり	23,650円

使用する機器について

この試験に使用する機器は以下の通りです。

担当部署

電子技術部　電子デバイスグループ

分類

海老名本部　試験計測　|　機械機器、電気・電子部品等の性能の評価　|　デバイス・実装