酸化拡散装置

【用途・特徴】
酸素や水蒸気を利用し、Si（シリコン）ウェハへ熱酸化により、酸化膜の形成を行います。また、Siウエハの不純物拡散を行います。

メーカー名

KHエレクトロニクス株式会社

仕様

抵抗加熱式横型／温度範囲400～1200℃／ウエハサイズ4インチ以下（推奨は3インチまで）／ドライ酸化、ウエット酸化

ご利用方法

試験計測（依頼試験）、機器使用で利用できます

料金について

■ 試験計測（依頼試験）料金

料金についてはお問い合わせください。

酸化拡散試験

料金NO.	項目	単位	料金	担当部名
E1120	酸化拡散試験	１時間当たり	23,650円	電子技術部

■ 機器使用料金 （特に表記のない場合は、1時間当たりの料金となります。）

料金NO.	設備機器名	メーカー・型式	使用料	担当部名
E6740	酸化拡散装置	ＫＨエレクトロニクス　特別仕様	19,360円	電子技術部

導入年度

平成元年度